• El 02 de marzo se realizará el segundo y último examen acumulativo para el ingreso directo a la Universidad Nacional de Huancavelica (UNH).

El segundo examen acumulativo del Centro Preuniversitario de la Universidad Nacional de Huancavelica (CEPRE-UNH) se realizará este domingo 02 de marzo en el campus de la sede central en Paturpampa, donde los postulantes buscan obtener una de las 131 vacantes para el ingreso directo a la primera casa superior de estudios de la región.

La directora de Admisión (DAD) de la UNH, Dra. Zeida Patricia Hoces La Rosa, destacó que el proceso de selección se desarrollará bajo estrictas medidas de seguridad, garantizando un examen limpio y transparente. “Nuestro personal está capacitado para llevar a cabo el control de seguridad interna de la ciudad universitaria, donde contamos con arcos que detectan dispositivos ilegales”, enfatizó Hoces La Rosa.

Por su parte, la directora del Centro Preuniversitario de la UNH, Dra. Milagros Piñas Zamudio, explicó que el proceso de evaluación para el ingreso directo al alma máter de Huancavelica consta de dos exámenes con una sumatoria acumulativa en cada etapa. El primer examen del ciclo intensivo 2025 se llevó a cabo el 2 de febrero y el segundo se realizará este domingo 2 de marzo.

Más de 1500 postulantes del Centro Preuniversitario UNH deberán presentarse en la sede principal de la ciudad universitaria este domingo 02 de marzo, el ingreso será desde las 07:30 hasta las 09:30 horas. El examen se desarrollará en los pabellones de las facultades de Derecho y Ciencias Políticas, Ciencias Empresariales, Enfermería, Ingeniería y Ciencias de la Salud, constando de 70 preguntas y una duración de 2 horas.

La cantidad de vacantes que se oferta por el Centro Preuniversitario para las áreas de Ciencias de la Salud (23), Ingeniería (67) y Ciencias Sociales y Humanidades (41), de acuerdo a la modalidad y etapas del proceso de admisión 2025-II de la Universidad Nacional de Huancavelica.

Huancavelica, 27 de febrero de 2025
Oficina de Comunicación e Imagen Institucional.